第229章 模拟软件（1/2）

有了光刻机技术，陆恒接下来有的忙了，李盈最近邀请一大堆华国半导体产业的公司开会，宣布恒创集团投资数十亿进军半导体。

寻求各家公司帮助。

目前也取得一定进展，大家都愿意派人过来参与研发。

当然了，这对这些公司来说没什么损失，他们也以为恒创是想要了解他们公司的产品，这些派遣过来的技术人员，就相当于产品讲解员。

毕竟光刻机据说数万甚至上十万个零配件，这些零配件自然要找公司生产。

国外的阿斯麦的光刻机也不是自己生产，而是全球供应链，无数公司结合，现在恒创要在华国搞自研，看这个架势是要全部零配件都自己生产，那就不能采购国外的东西了。

技术人员了解恒创需要的零件标准，然后回去制造，能够从恒创投资的数十亿中分一杯羹。

大家也没抱太大希望，都以为恒创这是被国外手机供应链逼得没办法，才出此下策。

也许只是做个样子，让国外的供应链担心恒创研发出什么东西，然后服软给他们供货，这就是大部分华国半导体厂家的想法。

陆恒的光刻机研发部门，还只是个壳子，里面什么都没有。

不过研究了好几天获得的技术后，陆恒已经有眉目了。

这次获得的技术，远远不止光刻机！

陆恒发现了更大的惊喜，原来这次因为陆恒设定了很多条件，其中包括了恒创集团现状，系统给出的技术方案自然也是现阶段恒创集团能推动的光刻机项目技术。

恒创目前最大的优势是什么，其实就是软件技术，是那近万被系统催眠过的软件工程师。

这些人的忠诚度很高，不达标的都被陆恒调去别的部门了。

系统给出的技术方案里有一套全新的软件，就和EdA可以设计芯片一样，这个软件就是设计光刻机的软件！

一般而言，依靠超算运算来实现真实光刻机的效果是极其困难的，甚至可以说几乎是不可能。

光刻机是一个高度复杂的设备，包含众多复杂的子系统，如光源系统、光学系统、投影系统、对准系统、机械系统等。

虽然在软件中可以进行一些模拟和仿真，但这些模拟无法完全准确地再现光刻机实际工作中的各种物理现象和复杂的相互作用。

例如，光在不同介质中的传播、折射、散射，以及光刻胶在光照下的化学反应等，这些物理特性和过程非常复杂，难以通过软件精确模拟。

实际的光刻机工作过程中还会受到各种干扰因素，如温度、湿度、振动等环境因素，以及硬件设备的微小差异和不确定性等，这些因素在软件模拟中很难全面考虑和准确体现。

但是这些难题，在这个软件上并不存在！

因为这套软件本就是先有了光刻机，才根据光刻机各种性能标准，反过来设计的软件。

而现在陆恒同时获得了软件和硬件技术指标。

这就和先有鸡还是先有蛋的问题差不多，可陆恒现在因为系统的关系，完全颠覆了设计理念。

当然了这套软件，也只能用于光刻机设计，不可能用这套软件模拟汽车、飞机、航母等等设计研发。